在當下科技飛速發展之際,半導體作為現代電子信息技術基石迅猛演進,其芯片廣泛用于各類設備,性能優劣直接關乎設備功能與效率。芯片尺寸縮小、集成度提高,半導體生產對精度、質量控制近乎苛刻,細微瑕疵就可能引發芯片失效,影響產品性能與良品率,傳統人工檢測難以應對,效率低且準確性、一致性差。此時,機器視覺檢測技術誕生,宛如半導體行業 “新眼睛”,是精準檢測與質量控制關鍵,融合多領域技術,用圖像傳感器采集信息,經處理、分析、比對后精準決策或執行動作,在半導體制造各環節起著關鍵作用。
半導體生產如同精密微觀制造 “交響樂”,從硅錠生長起,需嚴控溫度等因素確保晶體完美,硅錠切割成晶圓片后,經清洗、氧化、光刻、蝕刻、離子注入等精細處理,光刻是核心環節,對光刻設備精度、穩定性要求極高,微小光線偏差或設備振動就可能影響芯片性能,芯片制造完成后要封裝測試,給芯片 “穿鎧甲” 并檢測,整個流程上千道工序緊密相連,任一環節出問題都影響最終質量。
半導體生產中質量問題頻發,晶圓表面缺陷如裂紋、氣泡、雜物,會影響芯片性能、可靠性、散熱及引發短路;芯片表面印字和條碼錯誤,承載重要信息,出錯會致生產管理混亂、兼容性問題;管腳尺寸偏差,影響芯片電氣與機械性能,連接不良會出現接觸電阻增大等問題。
機器視覺檢測似 “圖像魔法”,通過工業相機等圖像采集設備捕捉半導體元件圖像,設備高分辨率傳感器與優質鏡頭能精準記錄微米級細節,圖像傳至處理單元,經去噪、校正亮度對比度色彩等預處理后,用邊緣檢測等算法提取特征信息,如同元件 “指紋”,再與標準模板比對,判斷元件是否有缺陷及缺陷詳情,有問題即報警反饋給生產控制系統。
與人工檢測相比,機器視覺檢測優勢顯著。精度上,人眼受限難測微小缺陷、尺寸偏差,機器視覺憑借高精度設備與算法能檢測微米極缺陷,精度甚至更高;速度上,人工檢測難滿足半導體生產線高速需求,易疲勞致效率、質量下降,機器視覺每分鐘可處理數百、數千元件,速度是人工數倍、數十倍;穩定性、一致性上,人工受主觀因素、疲勞影響,機器視覺嚴格按預設程序標準檢測,結果穩定一致。
晶圓生產細微缺陷會致芯片失效,該平臺用高分辨率相機與特殊鏡頭、自主研發算法,精準識別晶圓裂紋、氣泡、雜物等缺陷,某企業引入前人工檢測漏檢率高、良品率低,引入后缺陷檢測準確率超 99%,良品率提升 15 個百分點,降成本提競爭力。
芯片表面印字和條碼關乎產品追溯與管控,平臺圖像識別算法全方位檢測,識別內容、字體、條碼完整性等,能檢位置偏移、模糊、信息錯誤,助力企業全程追溯,某企業借此提升產品質量與客戶滿意度。
管腳影響芯片性能,平臺高精度測量算法與圖像處理技術,高精度測量管腳長度、寬度等尺寸參數與形狀等幾何特性,某電子設備制造企業曾因管腳尺寸偏差故障多,引入后故障率從 5% 降至 0.5% 以下。
芯片中元件位置、焊點、線路關乎電氣性能與穩定性,平臺分析芯片圖像,判斷元件位置正誤、焊點參數、線路狀況,某封裝測試企業使用后不良率降 30%,生產效率提 50%。
硅片定位精度影響后續工序與產品質量,某硅片制造企業此前定位精度不足致效率低、次品率高,引入匯萃通用智能高速機器視覺平臺后,定位精度控制的更加精準,生產效率提 30%,次品率從 8% 降至 2% 以下。
晶圓切割前瑕疵檢測、標記重要,某半導體制造企業人工檢測局限大,誤切割多、浪費大,引入該平臺后短時間全面掃描,檢測準確率超 99.5%,標記瑕疵,廢品率降 50%。
芯片分裝和封裝時錫球、錫膏質量關鍵,某芯片封裝企業此前檢測手段有限、不良率高,引入平臺后,不良率從 10% 降至 3% 以下,提升質量、減少售后成本。
未來機器視覺檢測技術在半導體行業前景廣闊。精度上,隨半導體技術發展,將向更高精度邁進,靠先進光學鏡頭、高分辨率傳感器與優化算法保障產品質量;智能化上,融合人工智能等,不僅檢缺陷,還能析因提建議、自我學習優化,適應工藝變化;還將與自動化、大數據、物聯網技術深度融合,實現全自動化控制、數據支持決策、遠程監控管理,助力半導體行業創新發展。
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半導體硅片作為芯片制造的核心基材,其表面和內部缺陷直接影響芯片良率與性能。傳統人工檢測受限于精度(僅能識別微米級缺陷)和效率(單次檢測需數十分鐘),已無法滿足先進制程(如 3nm 以下工藝)對硅片質量的嚴苛要求。機器視覺檢測技術憑借亞微米級精度(可達 0.1μm)、全表面 100% 覆蓋檢測和分鐘級快速成像分析能力,成為半導體產業鏈中關鍵的質量管控手段。
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